高分子樹脂合成技術と湿式微多孔膜形成技術の融合は、最先端の電子製品に搭載されている半導体材料の製造分野においても注目を集めています。半導体の基盤となるシリコンウェハーやフォトマスクの製造には、高精度の平滑度を要求する超精密ポリッシング工程があります。この超精密ポリッシングを実現したのが、湿式微多孔膜形成研究から生まれた研磨クロスです。
当社は、お客様ニーズに応えるべく多種多様な高品質の研磨クロス、研磨パッドを生産・販売しています。ますます高度化が進む超精密研磨用途に於いて、当社は高分子樹脂合成技術と湿式微多孔膜形成技術のたゆまぬ研究開発により、 次世代用研磨材開発に挑戦し続けています。